
Micron ขยายโรงงานฮิโรชิมามูลค่า ¥1.5tn เพื่อเพิ่มกำลังผลิต HBM และหน่วยความจำขั้นสูงรองรับความต้องการ AI โดยได้รับแรงหนุนจากเงินสนับสนุนของรัฐบาลญี่ปุ่น และการเชื่อมต่อกับห่วงโซ่วัสดุในประเทศ ซึ่งทำให้ผลบวกช่วงแรกเด่นต่อซัพพลายเออร์ญี่ปุ่นในกลุ่มเครื่องจักร วัสดุ เวเฟอร์ สารไวแสง และบรรจุภัณฑ์ขั้นสูง ก่อนทยอยหนุนความสามารถแข่งขันของ Micron ในตลาด AI memory หลังเริ่มติดตั้งเครื่องจักรตั้งแต่ครึ่งหลังปี 2028
Micron เริ่มก่อสร้างส่วนขยายโรงงานที่เมืองฮิโรชิมา ประเทศญี่ปุ่น มูลค่า ¥1.5tn หรือราว $9.3bn เพื่อผลิตหน่วยความจำขั้นสูง โดยเฉพาะ HBM ซึ่งเป็นหน่วยความจำที่ใช้คู่กับชิปเร่งความเร็ว AI เช่น Nvidia GPU และใช้ในงานประมวลผลที่ต้องการรับส่งข้อมูลจำนวนมาก เช่น ศูนย์ข้อมูล AI และระบบขับขี่อัตโนมัติ
รัฐบาลญี่ปุ่นสนับสนุนโครงการนี้สูงสุด ¥500bn และหากรวมเงินสนับสนุนด้านวิจัยและพัฒนา รัฐบาลญี่ปุ่นจัดสรรให้ Micron แล้วราว ¥775bn สะท้อนว่านโยบายชิปของญี่ปุ่นไม่ได้เน้นแค่ดึงโรงงานต่างชาติเข้ามา แต่ต้องการสร้างฐานการผลิตขั้นสูงที่เชื่อมกับห่วงโซ่วัสดุและเครื่องจักรในประเทศด้วย โดย Micron ระบุว่าโรงงานฮิโรชิมามีจุดแข็ง เพราะสามารถส่งมอบผลิตภัณฑ์ขั้นสูงให้ลูกค้าได้รวดเร็ว และราว 80% ของวัสดุที่โรงงานใช้มาจากญี่ปุ่น
ข้อสำคัญของข่าวฉบับแก้ไขคือ ปี 2028 เป็นช่วงเริ่มนำเครื่องจักรเข้าติดตั้ง ไม่ใช่เริ่มส่งมอบสินค้า ดังนั้นผลบวกเชิงกำลังผลิตจริงจะทยอยเห็นหลังจากนั้น ขณะที่ผลบวกเชิงคำสั่งซื้อเครื่องจักร วัสดุ และงานก่อสร้างโรงงานจะเริ่มเกิดก่อน
|
ช่วงเวลา |
เหตุการณ์สำคัญ |
ผลกระทบที่คาดว่าจะเกิดขึ้น |
|
2013 |
Micron เข้าซื้อโรงงานฮิโรชิมาจาก Elpida |
ทำให้ Micron มีฐานผลิต DRAM สำคัญในญี่ปุ่น และกลายเป็นผู้ผลิต DRAM รายหลักที่ยังมีฐานผลิตในประเทศ |
|
2023 เป็นต้นมา |
Micron เริ่มยกระดับโรงงานญี่ปุ่นด้วยเทคโนโลยีขั้นสูง เช่น EUV DRAM |
วางฐานให้โรงงานฮิโรชิมาสามารถผลิตหน่วยความจำรุ่นใหม่ที่ซับซ้อนขึ้น |
|
2026 |
เริ่มก่อสร้างส่วนขยายโรงงาน มูลค่า ¥1.5tn |
เป็นบวกต่อผู้รับเหมาก่อสร้างโรงงานสะอาด ผู้ผลิตวัสดุ และผู้ผลิตเครื่องจักรในญี่ปุ่น |
|
ครึ่งหลังปี 2028 |
เริ่มนำเครื่องจักรผลิตเข้าติดตั้ง |
คำสั่งซื้อเครื่องจักรผลิตชิป ระบบตรวจสอบ ระบบทดสอบ และวัสดุเริ่มเร่งตัวชัดขึ้น |
|
หลังปี 2028–2029 |
เริ่มเข้าสู่ช่วงทดลองผลิตและเพิ่มกำลังผลิต |
Micron จะมีฐานผลิต HBM/DRAM ขั้นสูงมากขึ้น ช่วยรองรับลูกค้า AI และลดช่องว่างกับ SK Hynix และ Samsung |
|
ระยะกลาง–ยาว |
กำลังผลิต HBM เพิ่มขึ้นในญี่ปุ่น |
หนุนห่วงโซ่อุปทานชิปญี่ปุ่น และเพิ่มความมั่นคงด้านการผลิตหน่วยความจำขั้นสูงนอกเกาหลีใต้/ไต้หวัน |
ญี่ปุ่นมีจุดแข็งมากในวัสดุและเครื่องจักรผลิตชิป โดย Shin-Etsu Chemical และ SUMCO เป็นผู้เล่นสำคัญในตลาดแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอน ขณะที่ JSR และ Tokyo Ohka Kogyo เป็นผู้เล่นหลักในสารไวแสง และบริษัทญี่ปุ่นยังมีบทบาทเด่นในวัสดุสำคัญหลายประเภทของอุตสาหกรรมชิป นอกจากนี้ Shin-Etsu, JSR, Tokyo Ohka Kogyo และ Fujifilm Electronics Materials ยังเป็นกลุ่มผู้เล่นสำคัญในตลาดสารไวแสง ซึ่งเป็นวัสดุจำเป็นต่อการผลิตชิประดับสูง
|
กลุ่ม |
บริษัทญี่ปุ่นที่เกี่ยวข้อง |
เหตุผลที่ได้ประโยชน์ |
|
เครื่องจักรผลิตชิป |
Tokyo Electron, SCREEN, Kokusai Electric, Nikon, Canon |
ได้ประโยชน์จากการติดตั้งเครื่องจักรผลิต DRAM/HBM ขั้นสูง เช่น เคลือบฟิล์ม ล้างเวเฟอร์ อบความร้อน และงานลิโทกราฟีบางส่วน |
|
เครื่องมือทดสอบและตรวจวัด |
Advantest, Lasertec, Hitachi High-Tech |
HBM ต้องการการตรวจสอบคุณภาพและทดสอบสมรรถนะสูง เพราะเป็นสินค้าที่มีความซับซ้อนและต้องควบคุมอัตราผลผลิตอย่างเข้มงวด |
|
แผ่นเวเฟอร์ซิลิคอน |
Shin-Etsu Chemical, SUMCO |
เป็นวัตถุดิบต้นน้ำสำคัญของการผลิต DRAM/HBM หากกำลังผลิตเพิ่ม ความต้องการเวเฟอร์คุณภาพสูงก็เพิ่มตาม |
|
สารไวแสงและเคมีภัณฑ์ขั้นสูง |
JSR, Tokyo Ohka Kogyo, Fujifilm, Shin-Etsu Chemical |
ใช้ในกระบวนการสร้างลวดลายวงจรบนชิป โดยเฉพาะการผลิตขั้นสูงที่ต้องการความแม่นยำสูง |
|
วัสดุบรรจุภัณฑ์และวัสดุเชื่อมต่อขั้นสูง |
Resonac, Toppan, Ibiden, Shinko Electric |
HBM ต้องอาศัยการซ้อนชิปและเชื่อมต่อความเร็วสูง จึงเป็นบวกต่อวัสดุขั้นสูง แผ่นรองวงจร และเทคโนโลยีบรรจุภัณฑ์ |
|
ก๊าซและเคมีสำหรับโรงงานชิป |
Taiyo Nippon Sanso, Kanto Denka, Tokuyama |
ได้ประโยชน์จากการใช้ก๊าซพิเศษและสารเคมีความบริสุทธิ์สูงในกระบวนการผลิต |
|
งานตัด เจียร และเตรียมเวเฟอร์ |
DISCO |
HBM และหน่วยความจำขั้นสูงต้องใช้กระบวนการตัดและเจียรเวเฟอร์ที่แม่นยำ เพื่อรองรับการซ้อนชิปและบรรจุภัณฑ์ขั้นสูง |
กลุ่มที่น่าจะได้ประโยชน์เด่นสุด คือ Tokyo Electron, SCREEN, Advantest, Shin-Etsu Chemical, SUMCO, Tokyo Ohka Kogyo, Fujifilm, Resonac, Ibiden และ Shinko Electric เพราะอยู่ในจุดที่เกี่ยวข้องโดยตรงกับการเพิ่มกำลังผลิต DRAM/HBM และมีสถานะเป็นผู้เล่นสำคัญในห่วงโซ่อุปทานญี่ปุ่น
เราเชื่อว่าโครงการนี้เป็นบวกต่อ Micron ในเชิงกลยุทธ์ เพราะช่วยเพิ่มกำลังผลิต HBM ลดช่องว่างกับคู่แข่ง และสร้างฐานการผลิตขั้นสูงในญี่ปุ่น ขณะเดียวกันเป็นบวกต่อซัพพลายเออร์ญี่ปุ่นในกลุ่มเครื่องจักร วัสดุ เวเฟอร์ สารไวแสง และบรรจุภัณฑ์ขั้นสูง โดยผลบวกช่วงแรกจะอยู่ที่กลุ่มเครื่องจักรและวัสดุมากกว่าตัว Micron โดยตรง เพราะโรงงานยังไม่เริ่มผลิตเชิงพาณิชย์ ส่วนผลบวกต่อ Micron จะเริ่มทยอยชัดหลังปี 2028–2029 เมื่อกำลังผลิตใหม่เริ่มเข้าระบบ หลังติดตั้งเครื่องจักรและผ่านการทดสอบคุณภาพแล้ว
ข้อสงวนสิทธิ์
ข้อมูล ความเห็น บทวิเคราะห์ ราคา การคาดการณ์ และ/หรือ ข้อมูลอื่นใด (“ข้อมูล”) ที่ปรากฏ จัดทำขึ้นเพื่อวัตถุประสงค์ในการให้ข้อมูลทั่วไปเท่านั้น โดยมีที่มาจากแหล่งข้อมูลสาธารณะที่เชื่อว่าเชื่อถือได้ บริษัทหลักทรัพย์ อินโนเวสท์ เอกซ์ จำกัด (“INVX”) ไม่รับรองความถูกต้อง ครบถ้วน หรือความเป็นปัจจุบันของข้อมูลดังกล่าว โดยเป็นข้อมูล ณ วันที่เผยแพร่และอาจเปลี่ยนแปลงได้โดยไม่ต้องแจ้งให้ทราบล่วงหน้า ข้อมูลนี้ไม่ถือเป็นการรับประกันราคาหรือผลตอบแทน คำแนะนำการลงทุน การเสนอซื้อหรือขายหลักทรัพย์ หรือชักชวนให้เสนอซื้อหรือเสนอขายหลักทรัพย์ใด INVX และ/หรือ กรรมการ พนักงาน และลูกจ้างของ INVX ไม่รับผิดชอบต่อความเสียหายอันเป็นผลมาจากหรือเกี่ยวข้องกับการใช้ข้อมูลดังกล่าว
INVX และธนาคารไทยพาณิชย์ จำกัด (มหาชน) (“ธนาคารฯ”) เป็นบริษัทย่อยที่บริษัท เอสซีบี เอกซ์ จำกัด (มหาชน) (SCBX) เป็นผู้ถือหุ้นรายใหญ่ ข้อมูลที่เกี่ยวข้องกับธนาคารฯ มีวัตถุประสงค์เพื่อใช้ในการเปรียบเทียบเท่านั้น INVX และ/หรือ บริษัทในเครือ SCBX อาจเป็นที่ปรึกษาทางการเงิน ผู้จัดจำหน่ายหลักทรัพย์ ผู้ออกและเสนอขายหุ้นกู้ที่มีอนุพันธ์แฝง หรือ ตราสารแสดงสิทธิการฝากหลักทรัพย์ต่างประเทศ บนหลักทรัพย์ที่ปรากฏอยู่ในรายงานฉบับนี้ รวมถึงอาจมีการทำธุรกรรมอื่นใดในหลักทรัพย์ที่ถูกกล่าวถึง อันอาจก่อให้เกิดความขัดแย้งทางผลประโยชน์ได้ ผู้ลงทุนควรทำความเข้าใจลักษณะสินค้า เงื่อนไขผลตอบแทน และความเสี่ยง ก่อนตัดสินใจลงทุน